集成电路的 “掩模” 是什么？

MASK(掩膜)：单片机掩膜是指程序数据已经做成光刻版，在单片机生产的过程中把程序做进去。优点是：程序可靠、成本低。缺点：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同时生产，供货周期长。
　　在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

在硅片上铺上一层导电膜 然后加工成不同的线条 就形成了不同的芯片功能 现在可以加工90纳米的宽度

好象就是用机器在半导体上刻制成二极管和电容等元器件