磁控溅射如何制作DLC膜层？？？

来源：百度知道 编辑：UC知道 时间：2024/06/12 11:25:02
我用普通直流磁控溅射制作DLC膜层，却怎么也镀不上。我的磁控靶是圆形的，直径120mm，设备上面装有两个。
我的工作电流0.5A，偏压100V。

目前本人已知的DLC成膜方法常用的主要有三种：
第一种：磁控溅射法，用于工具镀膜，需要先打底，如CrN, 然后用石墨靶溅射，最后还有通入C2H2 ,才能最终得到SP3结构的DLC。最好用中频电源;
第二种：PACVD，同样用于工具镀膜，也要用铬靶打底，镀DLC时，通入反应气体，靶只是作为一个电极来用，并不溅射。甚至有用射频电源；
第三种：生物DLC, 是透明的，带棕色货茶色，镀前先通入H2+Ar离子清洗，必须镀薄，而且要用很高的工艺气体压力。这种方法用直流也可以做到。

基体上是否有加SUB？