In situ ultrasonic measurement of photoresist glass transition temperature

来源：百度知道 编辑：UC知道 时间：2024/05/17 02:18:28
We have developed a method to measure the glass transition temperature of photoresist in situ. The
purpose of photoresist prebake is to evaporate excess solvent from the photoresist and to allow the
polymer chains to relax into an ordered matrix. The phase of a high frequency ultrasound signal was
monitored as it was reflected from the silicon/photoresist interface during the photoresist prebake.
There was an initial decrease in phase followed by a rapid increase once a given temperature was
reached. It is believed that this repeatable temperature is the glass transition temperature of the
resist/solvent mixture and that the rapid increase in phase following it is a result of solvent
evaporation. The glass transition temperature (Tg) for a freshly spun 2.2 mm Shipley 1813 resist
was measured to be 50 °C. The Tg measured increased from 50 to 66 °C as the time delay between
coating and prebaking was increased from 0 to 20 min. It is believed t

我们研究出了一种方法来测量光刻胶玻璃的过渡温度。把光刻胶预烘干的目的是把多余的溶剂蒸发掉，并且把聚合连排列成整齐的矩阵。当光刻胶预热的时候，可以监控到从硅晶/光刻胶表面反射的高频超声波的相位。可以观测到，当到达一定的温度的时候，相位在经过了快速增长后开始减小。这个可重复实验得到的温度就是这种胶混合溶剂玻璃的过渡温度，相位的快速增长是由于溶剂的挥发造成的。2.2mm厚的新鲜希普利1813玻璃纤维的过渡温度在50度。在预热时间延迟从0增长到20分钟的时候，Tg（过渡温度）也从50度增长到66度。这种变化是由于溶液挥发造成的。

希望能帮到你。

人工翻译 有保证！！
1.a freshly spun 2.2 mm Shipley 1813 resist这个和你的专业比较接近
我不确定是什么 你自己填上好了
2. photoresist 翻译为光致抗蚀剂 或 光致抗蚀剂 译文用的是 光致抗蚀剂 楼主根据具体情况选择吧
译文：

我们研发了一种方法来衡量光致抗蚀剂的现场玻璃转化

温度。光致抗蚀剂预烘焙的目的是从光致抗蚀剂中蒸发掉

过多的溶媒而使聚合物链缓和溶入规则的基体中。在预

烘焙过程中将监测从硅/光致抗蚀剂界面反射出来的高

频超声波信号。每当达到一个给定温度时就会有一个

最初的相的减少继而出现一个快速上升。普遍认为这

种可重复的温度就是抗蚀/溶解混合剂的玻璃转化温

度，而那个紧随其后的相的快速增加之后就是溶媒的蒸发的结果。a freshly spun 2.2 mm Shipley 1813 resist
的玻璃转化温度（Tg）测定为50摄氏度。所测得

的玻璃转化温度随着镀层和预烘焙之间的时间

间隔从0分钟增加到20分钟而从50摄氏度增加到66摄

氏度。普遍认为这个玻璃转化温度的变化是溶媒蒸发

的结果。

我们已经开发了一种测试光致抗蚀剂原位玻璃转化温度的方法。光致抗蚀剂预焙的目的为蒸发光