如何提高磁控溅射靶材利用率

来源：百度知道 编辑：UC知道 时间：2024/05/12 18:11:50
请问各位高人，如何才能提高平面磁控溅射的靶材利用率呢？最好有个图说明下小弟感激不尽，目前小弟几分不多，以后必当重谢，此事事关重大请各位高手来指点下谢谢

按你所说``是用平面靶,现在国内最大的利用率也不过到35的样子,
因为平面靶的磁场固定了,靶也没办法去转动.
现在有的公司把使用过后的平面中间环形跑道那一块去掉了,再几块加在一起利用,不过效果不是很理想,再有一定的危险性.
还有就是国外现在有设计成先进的平面靶`利用率能达到70,具体是什么设计国内现在应该还没什么公司引进``相信就是这两年内会引进来的``实物我也还没看到!不方便评价!

可以将平面磁控靶背面加电磁线圈，通过控制电流改变靶面磁场大小。