用溶胶凝胶法制二氧化硅薄膜，

溶胶凝胶法制备薄膜一般都有膜层结构疏松的缺点，一般来讲在比较成熟的工业生产中都采用PVD的物理气象沉积方法，二氧化硅薄膜在光学中用得很多，在其他电子行业都有用到，绝大多数都采用磁控溅镀或者电子束蒸发沉积的方法，所制备出的薄膜不仅致密，而且膜层结构容易控制，适合工业化连续性生产。现在高校的不少实验室都买了真空薄膜设备，用于各个薄膜的试验研究。如果你们学校有这样的设备，不妨去试试！

配比：TEOS、水和EtOH+i-PrOH所占的体积比分别在18％～50％、7％～52％、30％～65％
开裂的解决方法：
(1)原料的组成配比应严格控制在可形成溶胶的范围之内，其中TEOS、水和EtOH+i-PrOH所占的体积比分别在18％～50％、7％～52％、30％～65％范围内所形成的溶胶涂膜后膜层不易开裂。
(2)HC1作为TE0S的催化剂，HC1／TEOS之比影响着TEOS的聚合速度，从而直接关系到膜层干燥过程中的开裂与否，最佳的HC1／TEOS范围在(11～17)×10^-3。
(3)在干燥过程中保持气氛在一定的相对湿度能有效地防止膜层的开裂，在较高干燥温度下，这种作用更加明显，而且缩短干燥时问。
(4]干燥后的膜层在后续热处理过程中，热处理升温速率是影响膜层开裂的主要因素，在210度以下应采取0．25度／min的升温速率，否则极易引起膜层的开裂；在210度以上以0．5~1．O度／min升温速率升温也不会引起膜层的开裂。

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溶胶凝胶法制备薄膜一般都有膜层结构疏松的缺点，一般来讲在比较成熟的工业生产中都采用PVD的物理气象沉积方法，二氧化硅薄膜在光学中用得很多，在其他电子行业都有用到，绝大多数都采用磁控溅镀或者电子束蒸发沉积的方法，所制备出的薄膜不仅致密，而且膜层结构容易控制，适合工业化连续性生产。现在高校的不少实验室都买了真空薄膜设备，用于各个薄膜的试验研究。如果学校有这样的设备，不妨试试。