硅板上氧化层厚度的测定方法

来源:百度知道 编辑:UC知道 时间:2024/05/29 02:51:29
纯Si板在氧气和氩气混合环境下热处理,使其表面氧化得到Si/SiO2,不论处理条件,氧化层的厚度应该用什么方法测定呢?需要精确到1纳米。
希望有知道的朋友能赐教。

1.利用刻蚀工艺,比如说加多少刻蚀剂在多少时间内可以刻蚀多少的厚度,然后对比参考数据
2.光学的方法,利用硅和氧化硅的折射率的差别,从而使圆偏光变成椭偏光,利用软件来计算,可以得到氧化层的厚度+周期厚度的形式,再根据简单的推断,可得氧化层的厚度,在精确调节光路的情况下可以得到1nm的精确度。
  硅钙板具有防火、防潮、隔音、隔热等性能,在室内空气潮湿的情况下能吸引空气中水分子、空气干燥时,又能释放水分子,可以适当调节室内干、湿度、增加舒适感。天然石膏制品又是特级防火材料,在火焰中能产生吸热反应,同时,释放出水分子阻止火势蔓延,而且不会分解产生任何有毒的、侵蚀性的、令人窒息的气体,也不会产生任何助燃物或烟气。

1.利用刻蚀工艺,比如说加多少刻蚀剂在多少时间内可以刻蚀多少的厚度,然后对比参考数据
2.光学的方法,利用硅和氧化硅的折射率的差别,从而使圆偏光变成椭偏光,利用软件来计算,可以得到氧化层的厚度+周期厚度的形式,再根据简单的推断,可得氧化层的厚度,在精确调节光路的情况下可以得到1nm的精确度。

哇...我连问题都没看懂。。。真是隔行如隔山,文理科差别真大。

这个用光学方法比较好 可以用
白光照射氧化薄膜时,分别从薄膜上、下表面反射的两束光线发生干涉.根据布拉格公式(Braggequation),若已知反射干涉光谱相邻两个极大值对应的波数差和薄膜的折射率就可以算出薄膜厚度.sio2的有效折射率可根据Maxwell-Garnett有效介电常数理论由孔隙率算出.这种方法的优点是能实现sio2总体膜厚的非接触、非破坏性在线测量.
缺点是如果氧化不彻底会造成有效折射率计算不够准确

因为硅板在氧化过程中,硅原子的数量不变,只是增加了氧原子数量。或许可以通过扫描,记录表示氧原子的含量与硅原子的含量的比值来进行推算。
不过氧化过程中不只会得到二氧化硅,也会产生一氧化硅的,需要注意。