什么是真空沉积技术

是真空镀膜。真空气相沉积是利用热蒸发或辉光放电、弧光放电等物理过程，在基材表面沉积所需涂层的技术。它包括真空蒸发镀膜、离子镀膜和溅射。

另外，引入反应气体 ( O2, N2, CH4, B2H6, H2S, …)可以在低温条件下生成氧化物，氮化物，碳化物，硼化物等化合物 。

PEMSTM 技术

本公司应用PEMSTM（等离子体增强磁控溅射）技术进行真空沉积。它相对于传统的真空沉积技术既可以获得高密度、高结合力的涂层，又能在低温下进行处理，从而不影响零件的基体性能。

此技术尤其适应于建立降低摩擦系系数和抗磨损性的超硬金属陶瓷沉积层。

采用阴极弧方式沉积的涂层表面 采用PEMSTM技术沉积的涂层表面
主要优点有：

被处理材料范围很广（金属，陶瓷，聚合物，玻璃）；
涂层均匀，成分精确；
一机多用，可在多种模式下运行：
-PVD (物理气相沉积) 形式

-PECVD（等离子体增强化学气相沉积）形式

-建立复合沉积层（例如：TiN+DLC）

操作简单，电脑全自动控制沉积过程，稳定性好；
工艺灵活，根据客户具体要求，方便的对准程序进行调整，优化沉积层质量.；
沉积前，在炉内自动对零件和靶材同时进行清洗，以保证得到高结合力和成份准确的沉积层。
涂层

涂层 硬度（HV） 减少摩擦的程度 抗热氧化 颜色
CERTESSTM X ** ** **
CERTESSTM N * * ***
CERTESSTM Ti ** * **
CERTESSTM SD **** ** ***
CERTESSTM C *** * **
CERTESSTM T ** * ****
CERTESSTM DLC * **** *

用*号多少表示程度高低

优点

与其他镀层或表面处理方法相比，真空气相沉积具有以下