光纤G.652与G.657的比较和特性

G.652B单模光纤全面优化了1310nm和1550nm窗口性能，在1310nm窗口的色散最小，全面支持高容量、低成本的光传输器件。同时，在1550nm窗口的衰减最低。由于采用等离子休激活化学气相沉积（简称PCVD）工艺制造光纤芯，同时采用外部气相沉积（简称OVD）工艺制造的合成石英管来开成光纤包层。同时具有折射率真分布控制精确，几何特性优越和误差低等优点，也能有效地支持和WDM系统。
G.657弯曲不第三单模光纤同时具有两个诱人的特性：极好的弯曲能力和低水峰，可充分利用2（-E-S-C-L波段（1260nm1625nm）传输。G.657光的抗弯曲性能在1800nm工作窗口范围内抑制了附加损耗。不仅适合L波段使用，而且易于安装，尤其是在光纤到户的网络中，光纤的弯曲半径能满足沿最小的墙角甫设。不仅如此，G.657光纤的模场直径与标准的G.652单模光纤一致主，这使其与G.652光纤有低的连接损耗，包括熔接损耗和插损等。该光纤能充分满足网络对容量的性的要求。
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G.657是新出产的光纤吗？那其在光缆外户套上是用什么表示呢？