紫外光负胶的显影液和清洗液的成分是什么

半导体工艺——光刻

紫外负性光刻胶

显影液：二甲苯。清洗液：乙酸丁脂或乙醇、三氯乙烯。

显影中的常见问题：
a、显影不完全（Incomplete Development）。表面还残留有光刻胶。由显影液不足造成。
b、显影不够（Under Development）。显影的侧壁不垂直。由显影时间不足造成。
c、过度显影（Over Development）。靠近表面的光刻胶被显影液过度溶解，形成台阶。由显影时间太长造成。