在硅表面能用等离子状态低温制备二氧化硅吗?

来源:百度知道 编辑:UC知道 时间:2024/05/16 08:14:01
论文或者简单工艺介绍一下,谢谢
不需要扩散制备工艺

现在低温等离子体广泛运用于多种生产领域。例如:等离子电视,婴儿尿布表面防水 .... ③用热等离子技术制备超细粉末,如0.01~1μm的三氧化二铝、二氧化硅和氮化硅粉末。 ...

用热等离子技术制备超细粉末,如0.01~1μm的三氧化二铝、二氧化硅和氮化硅粉末。 ...