硅和氢氟酸反应

是的，常温下，硅单晶在纯HF中的腐蚀速度很小，但在纯HF中加一滴HNO3，腐蚀速度会大大增加。我做硅料酸洗的，我们的酸就是HNO3和HF的混合酸。在这个过程中，参与反应的不是硅本身，而是硅表面的金属杂质。涉及到电化学腐蚀的知识。通常用的非择优腐蚀剂的配方为:HF(40-42%):HNO3(65%)=1:2.5它们的化学反应过程为:Si+4HNO3+6HF=H2SiF6+4NO2+4H2O

没有反应条件，常温下即可反应
Si+4HF=SiF4↑+2H2↑
如果氢氟酸浓度较大，生成的四氟化硅会形成氟硅酸（H2SiF6）
离子方程式为Si+6HF=2H+ +SiF6（2-）+2H2↑
反应原理：这牵涉到化学反应平衡，不知道你现在在读什么阶段。 到大学里才能知道。
简单来说就是，化学反应都是需要动力的，没有动力的时候就会达到化学平衡，也就是稳定不反应了，硅与氢氟酸作用会产生SiF4，会不断挥发，这样就打破了化学平衡
整个体系就会不断因为SiF4的挥发而持续进行

氢氟酸与硅反应生成产物是氟化硅，反应条件是高温
氟化氢是弱酸，部分电离，而硅又不与其他酸反应，所以硅不可能是与氢离子反应。四氟化硅是气体，挥发了。
Si + 4HF = SiF4(g) + 2H2(g)
另外二氧化硅能跟其反应，同样是四氟化硅是气体。
SiO2 + 4HF = SiF4(g) + 2H2O

常温即可缓慢反应,加热反应加快

在常温下，硅和氢氟酸不反应。只有在加热的条件下，才能反应。