真空镀膜偏压选取

来源：百度知道 编辑：UC知道 时间：2024/06/14 10:28:40
看资料《实用镀膜技术》
其中提到的工艺中，清洗偏压选择低占空比，而镀膜时选择低偏压高占空比。
但是在我所在的单位中，恰恰相反，清洗选择高偏压高占空比，成膜选择低偏压低占空比。
有同行的来说说你们厂使用的是哪一种配比。
一起来讨论一下两种配比的优劣。
（偏压的高低是指绝对值的高低）
这样吧，具体点的实例。
不锈钢电镀氮化钛，电源使用实力源的单极脉冲偏压电源。
清洗时偏压当然应该是作用时间长一点的好，所以选择了高占空比。至于清洗的强度一般用偏压大小来控制。
那么在这种情况下，如果我选择低占空比的话，相当于每周期作用时间减短，那么根据清洗强度来说，我应该延长清洗的时间或增大偏压咯。
另外，成膜时的占空比应该与膜层的结合力有一定关系吧，我们厂从来没有做过面层偏压高占空比的，这应该是原来的一些前辈的经验。那么你们有没有做过高占空比这样的膜层，这样做的测试情况怎样呢？
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应该这样理解，偏压高低决定的是轰击离子的能量大小，而占空比大小则决定轰击离子的数量，两者搭配使用并没有一个固定的公式，如果非要定性两者关系的话，我觉得用“两者相乘等于轰击效果”来形容会比较恰当些。换句话说，只要在膜层结合力要求的范围内，很多种参数包括高偏压低占空比或者低偏压高占空比，都是可以的。
我在五金手机壳镀膜时，试过多种参数，在膜层不厚的时候，都看不出差异来，试过用30的占空比有出现过掉膜，最后是选了个比较折中位置的参数，大概是100伏偏压，60的占空比。

占空比是指电压的高电平和低电平输出占有比例，无论你调高还是调低其电压的峰值是不改变的，只是相对占有周期比例变长而已，
关于镀膜的占空比调节，这要看镀什么膜层，达到什么清洗效果！还要看偏压电源是什么属性的？
你这样很难具体讨论！